| 发明名称 |
BATCH CURING CHAMBER WITH GAS DISTRIBUTION AND INDIVIDUAL PUMPING |
| 摘要 |
본 개시내용의 실시예들은 일반적으로, 다수의 기판들을 한 번에 동시에 경화시키도록 적응되는 배치 프로세싱 챔버에 관한 것이다. 배치 프로세싱 챔버는, 각각이 독립적으로 온도 제어되는 다수의 프로세싱 서브-구역들을 포함한다. 배치 프로세싱 챔버는, 각각이 배치 프로세싱 챔버 외부의 기판 수송 디바이스에 의해 서비스되는 제 1 및 제 2 서브-프로세싱 구역을 포함할 수 있다. 부가하여, 배치 경화 챔버의 로딩 개구부 상에 탑재된 슬롯형 커버는, 로딩 및 언로딩 동안 챔버에 진입하는 주변 공기의 효과를 감소시킨다. |
| 申请公布号 |
KR20170007411(A) |
申请公布日期 |
2017.01.18 |
| 申请号 |
KR20167034905 |
申请日期 |
2015.04.21 |
| 申请人 |
어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 |
发明人 |
칸, 아디브;벤카타라만, 산카르;핀슨, 제이 디. 3세;양, 장규;잉글, 니틴 크리쉬나라오;리앙, 퀴웨이 |
| 分类号 |
H01L21/205;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/46;C23C16/56;H01L21/02;H01L21/67;H01L21/677;H01L21/687 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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