发明名称 プラズマ処理装置用チラー装置
摘要 【課題】ワークのプラズマ処理装置でのターゲットとなる試料の表面積が大きく、試料台を兼ねる下部電極が大型でも精度良く保温制御することができ、試料を要求される精度で均一にエッチングできるプラズマ処理装置用チラー装置を提供する。【解決手段】このチラー装置では、加熱装置を備えた冷媒サイクルに接続されるプラズマ処理装置400を適用した構成において、試料404の表面積が大きい場合に対応する大型試料台を兼ねる下部電極403に冷媒流路を分岐できるように付設され、冷媒サイクルと繋がるように接続された下部電極冷媒管の下部電極403に対する保温部の冷媒流路近傍に設けた温度センサから検出される下部電極冷媒管冷媒検出温度について、制御装置が比例、積分、微分を含むPID演算した結果に基づいて生成した加熱調整制御信号を加熱装置へ送信し、下部電極冷媒管冷媒検出温度が設定温度となるようにフィードバック制御を行う。【選択図】図2
申请公布号 JP2017005210(A) 申请公布日期 2017.01.05
申请号 JP20150120572 申请日期 2015.06.15
申请人 伸和コントロールズ株式会社 发明人 関 篤史;坂井 清一郎
分类号 H01L21/3065;C23C16/46;F25B1/00 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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