发明名称 一种相变存储单元及其制备方法
摘要 本发明公开了一种相变存储单元及其制备方法,包括自下而上依次设置的衬底、下电极、下绝热层、相变材料层、上绝热层和上电极,所述上电极还与所述相变材料膜电连接,其中,所述下绝热层具有主要由复数个四棱台状单元,特别是二氧化硅四棱台组成的周期性结构,所述相变材料层连续覆设在所述周期性结构上,并形成复数个凹槽结构。本发明易于制备,成本低廉,并且存储密度高,可充分满足相变存储器的应用需求。
申请公布号 CN103794721B 申请公布日期 2017.01.04
申请号 CN201410057134.7 申请日期 2014.02.20
申请人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明人 孔涛;黄荣;张杰;卫芬芬;程国胜
分类号 H01L45/00(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人 王锋
主权项 一种相变存储单元,包括自下而上依次设置的衬底、下电极、下绝热层、相变材料层、上绝热层和上电极,所述上电极还与所述相变材料层电连接,其特征在于,所述下绝热层具有主要由复数个四棱台状单元组成的周期性结构,所述相变材料层连续覆设在所述周期性结构上,并形成复数个凹槽结构,每一上电极与一引出电极一端连接,所述引出电极另一端穿过上绝热层,并与所述相变材料层电性接触。
地址 215000 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号