| 发明名称 | 抗反射结构及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种抗反射结构，其包括基板以及渐变膜。渐变膜具有金属掺杂的氟氧化硅且配置于基板上。渐变膜的硅：金属原子比自渐变膜的表面往基板逐渐降低。渐变膜的硅：金属原子比为大于约1：1至小于约10：1。另提出一种抗反射结构的制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN106291778A | 申请公布日期 | 2017.01.04 |
| 申请号 | CN201510522305.3 | 申请日期 | 2015.08.24 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 游胜闵;孙文檠 |
| 分类号 | G02B1/11(2015.01)I;G02B1/12(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2015.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 孙梵 |
| 主权项 | 一种抗反射结构，其特征在于包括：基板；以及渐变膜，其具有金属掺杂的氟氧化硅且配置于所述基板上，其中所述渐变膜的硅：金属原子比自所述渐变膜的表面往所述基板逐渐降低，且所述渐变膜的硅：金属原子比为大于1：1至小于10：1。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县 | ||