| 发明名称 | 组合物以及制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及组合物以及制造方法。一种装置，包括衬底(308)和用沉积过程形成在所述衬底(308)上的金属层(336)，对于沉积过程的该金属层的特征是具有预定的沉积态缺陷密度。作为制造过程的结果，金属层(336)相对于同样的层(336)或者具有相同的成分以及在相同的沉积条件下形成的另一层的预定的沉积态缺陷密度来说，其缺陷密度减小了。在相关的方法中，提供衬底(308)并且在所述衬底(308)上形成可移除层(330)。在可移除层(330)上形成金属层(336)，并且进行图案化和刻蚀以在可移除层(330)上限定结构。可移除层(330)被移除，并且将所述金属层(336)加热长达超过在其上接合气密封盖(340)所必需的时间。 | ||
| 申请公布号 | CN102623221B | 申请公布日期 | 2016.12.07 |
| 申请号 | CN201110463346.1 | 申请日期 | 2011.12.21 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | A·J·德托尔;R·科尔德曼;C·基梅尔;M·艾米 |
| 分类号 | H01H11/00(2006.01)I;H01H59/00(2006.01)I | 主分类号 | H01H11/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 张金金;朱海煜 |
| 主权项 | 一种制造开关结构的方法，包括：提供衬底（308）；在所述衬底（308）上形成可移除层（330）；在所述可移除层（330）上沉积金属层（336），其包括至少50原子百分数的金属；图案化并且刻蚀所述金属层（336）以在所述可移除层（330）上限定结构；移除所述可移除层（330）；以及加热所述金属层（336）长达超过在其上接合气密密封盖（340）必需的时间。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||