发明名称 |
冷却された真空閉じ込め容器を備えるホットウォールリアクタ |
摘要 |
本明細書では、基板を処理する方法および装置が提供される。いくつかの実施形態では、基板を処理する装置が、処理容積を取り囲むチャンバ本体であり、チャンバ床、チャンバ床に結合されたチャンバ壁およびチャンバ壁に取外し可能に結合されたチャンバリッドを備え、チャンバ床、チャンバ壁およびチャンバリッドのうちの少なくとも1つが、熱制御媒体の流れのための通路を備えるチャンバ本体と、チャンバ床に隣接して、チャンバ床から間隔を置いて配置されたヒータプレートと、チャンバ壁に隣接して、チャンバ壁から間隔を置いて配置されたスリーブであり、ヒータプレートによって支持されたスリーブと、チャンバ壁とチャンバリッドの間の第1の境界面に配置された第1のシーリング要素とを含む。【選択図】図2 |
申请公布号 |
JP2016536797(A) |
申请公布日期 |
2016.11.24 |
申请号 |
JP20160538921 |
申请日期 |
2014.07.18 |
申请人 |
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドAPPLIED MATERIALS,INCORPORATED |
发明人 |
ヒューストン ジョエル エム;チュヴァルチ オルカン;カラジム マイケル ピー;ユドフスキー ジョセフ |
分类号 |
H01L21/31;C23C16/44;H01L21/3065 |
主分类号 |
H01L21/31 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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