发明名称 INJECTOR ASSEMBLY AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE COMPROMISING THE SAME
摘要 본 발명에 따른 인젝터 어셈블리는 챔버 내에 가스를 분사하는 인젝터; 챔버 외측에 설치되며, 인젝터와 연결되어 인젝터의 가스 분사 위치를 조정하는 인젝터 홀더;를 포함하며, 인젝터 홀더는 인젝터와 결합되어 인젝터를 이동시키는 위치 조절부, 위치 조절부를 수평으로 구동시키는 수평구동부; 챔버 외측과 위치 조절부를 연결하며 인젝터의 단부를 둘러싸는 탄성부재로 이루어진 연결관을 포함한다. 본 발명에 따른 기판 처리장치는 내부 공간을 제공하는 챔버; 챔버의 내부에 설치되며 기판이 안착되는 기판 지지대; 챔버 내에 가스를 분사하는 인젝터; 및 챔버 외측에 설치되며, 인젝터와 연결되어 인젝터를 수평방향으로 이동시키는 인젝터 홀더;를 포함한다. 본 발명에 따르면, 인젝터의 분사구를 원하는 위치로 정밀하게 축방향이동시킬 수 있다. 특히 인젝터의 분사구를 수평방향으로 정밀하게 이동시킬 수 있다. 또한 기판 처리장치의 챔버 내부의 인젝터 분사구 위치를 육안으로 확인하지 않고도 원하는 지점으로 이동시킬 수 있기 때문에, 공정 수행 중에 인젝터 분사위치를 조정하기 위해 챔버의 진공상태를 해제하고 챔버를 개방할 필요가 없어 공정시간을 단축하고 효율적인 작업을 할 수 있다.
申请公布号 KR101679222(B1) 申请公布日期 2016.11.24
申请号 KR20100036977 申请日期 2010.04.21
申请人 주성엔지니어링(주) 发明人 김선기
分类号 H01L21/67;C23C16/455 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人
主权项
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