PROJECTION LENS ARRANGEMENT

摘要

본 발명은 복수의 비임렛(21)을 이용하여 타겟(11)을 노출하기 위한 하전 입자 다중-비임렛 시스템에 관한 것이다. 상기 시스템은 하전 입자 소스(1), 통공 어레이(4), 비임렛 조작기(6), 비임렛 블랭커(6), 및 투사 렌즈 시스템의 어레이를 가진다. 하전 입자 소스(1)는 하전 입자 비임(20)을 발생하도록 구성된다. 통공 어레이(4)는 발생된 비임으로부터 개별 비임렛을 형성하도록 구성된다. 비임렛 조작기는 각각의 그룹에 대해 공통 수렴 지점을 향하여 비임렛의 그룹을 수렴하도록 구성된다. 비임렛 조작기(6)는 비임렛의 그룹 내의 비임렛을 제어가능하게 블랭킹하도록 구성된다. 마지막으로, 투사 렌즈 시스템(10)의 어레이는 타겟(11)의 표면 상으로 비임렛의 그룹의 블랭킹되지 않은 비임렛을 투사하도록 구성된다. 비임렛 조작기는 투사 렌즈 시스템들 중 하나에 대응하는 지점을 향하여 비임렛의 그룹의 각각을 수렴하도록 추가로 이루어진다.