发明名称 APPARATUS FOR CLEANING REFLECTIVE MASK AND METHOD FOR CLEANING REFLECTIVE MASK
摘要 반사형 마스크에 형성된 루테늄을 포함하는 캡핑층의 광학 특성의 열화를 억제할 수 있는 반사형 마스크의 세정 장치, 및 반사형 마스크의 세정 방법을 제공하는 것이다. 실시형태에 관련된 반사형 마스크의 세정 장치는, 반사형 마스크에 형성된 루테늄을 포함하는 캡핑층에, 유기 용제 및 계면 활성제 중 적어도 어느 하나를 포함하는 제1 용액을 공급하는 제1 공급부와, 상기 캡핑층에, 환원성 용액 및 산소를 포함하지 않는 용액 중 적어도 어느 하나를 공급하는 제2 공급부를 구비하고 있다. 또한, 다른 실시형태에 관련된 반사형 마스크의 세정 장치는, 반사형 마스크에 형성된 루테늄을 포함하는 캡핑층에, 환원성 가스로부터 생성된 플라즈마 생성물을 공급하는 제3 공급부와, 상기 캡핑층에, 환원성 용액 및 산소를 포함하지 않는 용액 중 적어도 어느 하나를 공급하는 제2 공급부를 구비하고 있다.
申请公布号 KR20160132068(A) 申请公布日期 2016.11.16
申请号 KR20167027928 申请日期 2015.02.19
申请人 SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION 发明人 MATSUSHIMA DAISUKE;DEMURA KENSUKE;SUZUKI MASAFUMI;NAKAMURA SATOSHI
分类号 G03F1/82;G03F1/24;G03F7/004;G03F7/20;G03F7/42 主分类号 G03F1/82
代理机构 代理人
主权项
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