| 发明名称 | 用于光刻的罩面层组合物和方法 | ||
| 摘要 | 提供适合施加在光致抗蚀剂组合物之上的面涂层组合物。优选的面涂层组合物包含第一聚合物，所述第一聚合物包含：(i)第一单元，其包含含氮部分，所述含氮部分包含酸不稳定基团；和(ii)第二单元，其(1)包含一个或多个疏水基团且(2)与所述第一单元不同。 | ||
| 申请公布号 | CN106094439A | 申请公布日期 | 2016.11.09 |
| 申请号 | CN201610258327.8 | 申请日期 | 2016.04.22 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 | 发明人 | C-Y·洪;E-H·柳;M-K·蒋;D-Y·金;J·Y·安 |
| 分类号 | G03F7/11(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 主权项 | 一种适用于在光致抗蚀剂层上方形成层的组合物，所述组合物包含：(a)第一聚合物，其包含：(i)第一单元，其包含含氮部分，所述含氮部分包含酸不稳定基团；(ii)第二单元，其(1)包含一个或多个疏水基团且(2)与所述第一单元不同。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道 | ||