SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND RECORDING MEDIUM

摘要

샤워 헤드 내의 처리 가스와는 상이한 성분의 포획 효율을 높게 하는 것을 목적으로 한다. 가스를 분산시키는 샤워 헤드와, 상기 샤워 헤드의 하류에 설치되고, 처리 가스에 의해 기판을 처리하는 처리 공간을 갖는 처리 용기와, 상기 샤워 헤드에 접속된 가스 공급부와, 상기 샤워 헤드에 접속된 샤워 헤드 가스 배기부와, 상기 샤워 헤드 내의 상기 처리 가스와 상이한 성분을 포획하는 포획부를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다.