发明名称 使用微透镜阵列而产生线路的光学设计
摘要 本发明的实施例提供一种设备,该设备包括基板支撑件;激光辐射源,该激光辐射源沿着光学路径发射激光辐射;和照明光学器件,该照明光学器件沿着光学路径设置。照明光学器件包括慢轴透镜集合和快轴透镜集合。设备进一步包括均化器,该均化器沿着光学路径设置在照明光学器件与基板支撑件之间。均化器包括柱状透镜的第一微光学小透镜阵列和柱状透镜的第二微光学小透镜阵列,其中柱状透镜的第二微光学小透镜阵列具有相对大于柱状透镜的第一微光学小透镜阵列的小透镜间距的小透镜间距,且第一微光学小透镜阵列的小透镜轴和第二微光学小透镜阵列的小透镜轴沿着轴定向,该轴平行于激光辐射源的快轴。
申请公布号 CN103797564B 申请公布日期 2016.11.02
申请号 CN201280044675.5 申请日期 2012.10.12
申请人 应用材料公司 发明人 道格拉斯·E·霍姆格伦;塞缪尔·C·豪厄尔斯
分类号 H01L21/268(2006.01)I;H01L21/324(2006.01)I 主分类号 H01L21/268(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国;赵静
主权项 一种用于处理半导体基板的热处理设备,所述热处理设备包括:基板支撑件;激光辐射源,所述激光辐射源用于沿着与所述基板支撑件交叉的光学路径发射激光辐射;照明光学器件,所述照明光学器件沿着所述光学路径设置,所述照明光学器件包括:慢轴透镜集合,所述慢轴透镜集合具有彼此间隔开的至少第一柱状透镜和第二柱状透镜;和快轴透镜集合,所述快轴透镜集合具有彼此间隔开的至少第一柱状透镜和第二柱状透镜,所述快轴透镜集合设置在所述慢轴透镜集合的所述第一柱状透镜与所述第二柱状透镜之间;和均化器,所述均化器沿着所述光学路径设置在所述照明光学器件与所述基板支撑件之间,所述均化器包括:第一透镜阵列;和第二透镜阵列,其中所述第二透镜阵列的透镜比所述第一透镜阵列的透镜具有更大的间距,且所述第一透镜阵列的透镜的轴和所述第二透镜阵列的透镜的轴平行于所述激光辐射源的快轴定向。
地址 美国加利福尼亚州