PLASMA-RESISTANT COMPONENT METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA-RESISTANT COMPONENT AND FILM DEPOSITION DEVICE USED TO MANUFACTURE PLASMA-RESISTANT COMPONENT

摘要

본 발명의 하나의 실시 형태는, 플라즈마 부품의 산화물 피막은, 0.05 내지 3㎛의 미소 입자끼리가 부품 기재 표면에서 소결 결합되어 다결정 입자가 되어 그의 집합체로서 형성되는 산화물 퇴적 피막이며, 막 두께가 10㎛ 이상 200㎛ 이하이고, 막 밀도가 90％ 이상인 것을 특징으로 하는 내플라즈마 부품 및 내플라즈마 부품의 제조 방법이다. 상기 구성에 의하면, 피막으로부터의 파티클의 발생을 안정적이고 유효하게 억제하고, 또한 재생 처리에서 부식이나 변형 등의 대미지를 받기 어려운 내플라즈마 부품 및 내플라즈마 부품의 제조 방법이 얻어진다.