| 摘要 |
Ein Feldfacettenspiegel (6) für die EUV-Projektionslithographie hat eine Mehrzahl von Feldfacetten (18) zur reflektierenden Führung von Teilbündeln von EUV-Beleuchtungslicht hin zu einem Objektfeld. In letzterem ist ein abzubildendes Objekt anordenbar und längs einer Objektverlagerungsrichtung verlagerbar. Das Objektfeld ist von einer ersten Objektfeldkoordinate senkrecht zur Objektverlagerungsrichtung und von einer zweiten Objektfeldkoordinate längs der Objektverlagerungsrichtung aufgespannt. Der Feldfacettenspiegel (6) hat einen Spiegelträger (20). Eine Reflexionsflächenform der Feldfacetten (18) ist so ausgeführt, dass diese bei der Teilbündel-Führung in das Objektfeld übertragen wird, wobei eine erste Facettenerstreckung (x) in einer Richtung verläuft, die in die erste Objektfeldkoordinate überführt wird, und wobei eine zweite Facettenerstreckung (y) in einer Richtung verläuft, die in die zweite Objektfeldkoordinate überführt wird. Der Feldfacettenspiegel (6) hat mindestens zwei Typen von Feldfacetten (18I, 18II, 18III) mit unterschiedlichen zweiten Facettenerstreckungen (y). In einem radial äußeren Bereich des Spiegelträgers (20) liegen Feldfacetten (18III) mit größerer zweiter Facettenerstreckung vor als in einem radial weiter innen liegenden Bereich des Spiegelträgers (20). Es resultiert ein Feldfacettenspiegel, bei dem ein über die Objektverlagerungsrichtung integrierter Dosisfehler bei einer Objektbeleuchtung während der Projektionsbelichtung reduziert ist. |
