发明名称 基于氧化剥离技术的IMM结构太阳能电池及其制备方法
摘要 本发明公开了一种基于氧化剥离技术的IMM结构太阳能电池及其制备方法,其IMM结构太阳能电池包括有GaAs衬底,在所述GaAs衬底上按照层状叠加结构从下至上依次外延生长有AlAs牺牲层、N型欧姆接触层、多结子电池、P型欧姆接触层,形成有外延层结构,所述AlAs牺牲层能在450摄氏度高温水汽气氛下进行湿氧氧化反应,氧化生长成AlxOy,从而改变牺牲层材料性质,使得牺牲层容易产生裂痕,进而可在外力或者酸性溶液的作用下致使GaAs衬底与外延层结构分开。本发明成品制备率高,且衬底可回收利用。
申请公布号 CN104465819B 申请公布日期 2016.10.05
申请号 CN201410705177.1 申请日期 2014.11.28
申请人 中山德华芯片技术有限公司 发明人 毛明明;张杨;潘旭;杨柏;王智勇
分类号 H01L31/04(2014.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/04(2014.01)I
代理机构 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人 黄磊
主权项 基于氧化剥离技术的IMM结构太阳能电池的制备方法,所述的IMM结构太阳能电池包括有GaAs衬底(1),在所述GaAs衬底(1)上按照层状叠加结构从下至上依次外延生长有AlAs牺牲层(2)、N型欧姆接触层(3)、多结子电池(4)、P型欧姆接触层(5),形成有外延层结构,其中,所述AlAs牺牲层(2)能在450摄氏度高温水汽气氛下进行湿氧氧化反应,氧化生长成AlxOy,从而改变牺牲层材料性质,使得牺牲层容易产生裂痕,进而可在外力或者酸性溶液的作用下致使GaAs衬底(1)与外延层结构分开;其特征在于,所述IMM结构太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:1)在所述GaAs衬底上利用MOVCD的外延生长办法按照层状结构从下至上依次外延生长有AlAs牺牲层、N型欧姆接触层、多结子电池、P型欧姆接触层,形成有外延层结构;2)在所述P型欧姆接触层上利用光刻胶剥离技术制备P型金属电极;3)利用湿法腐蚀技术或ICP刻蚀技术将外延层刻蚀至GaAs衬底,露出AlAs牺牲层;4)将制备出的P型金属电极对准至事先准备好的基座,通过键合的方式倒扣至基座上;5)将倒扣有P型金属电极的基座移至氧化炉内,通入N<sub>2</sub>,在450摄氏度高温水汽气氛下进行湿氧氧化反应,氧化AlAs牺牲层;6)氧化完毕,若GaAs衬底还未完全脱落,则可通过外力或者将其放人酸性溶液内,完成衬底剥离,回收利用;7)在N型欧姆接触层上制备N型电极,至此便完成IMM结构三结太阳能电池的制备。
地址 528437 广东省中山市火炬开发区火炬路22号之二第3-4层