发明名称 |
MEMS装置 |
摘要 |
本发明涉及MEMS装置,具有:MEMS元件,设置于基板上;第一保护膜,设置于基板上及MEMS元件上,形成对MEMS元件进行收容的空洞;密封层,以覆盖保护膜的方式设置;以及第二保护膜,设置于密封层上。并且,保护膜上的密封层的外侧端部设定为基板上的空洞的端部靠外侧,从密封层的外侧端部起至空洞的端部为止的距离A与保护膜的厚度B之比B/A为0.25~0.52的范围。 |
申请公布号 |
CN105936498A |
申请公布日期 |
2016.09.14 |
申请号 |
CN201510535440.1 |
申请日期 |
2015.08.27 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
山田雅基 |
分类号 |
B81B3/00(2006.01)I;B81B7/00(2006.01)I;B81B7/02(2006.01)I |
主分类号 |
B81B3/00(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
戚宏梅;杨谦 |
主权项 |
一种MEMS装置,其中,具有:MEMS元件,设置于基板上,具有可动部;第一保护膜,以形成对所述MEMS元件进行收容的空洞的方式,设置于所述基板上及所述MEMS元件上,具备与所述空洞连通的多个贯通孔;密封层,以覆盖所述第一保护膜的方式设置于所述第一保护膜上;以及第二保护膜,以覆盖所述密封层的方式设置于所述密封层上;所述第一保护膜上的所述密封层的外侧端部设定为比所述基板上的所述空洞的端部靠外侧,从所述密封层的所述外侧端部起至所述空洞的所述端部为止的距离A与所述第一保护膜的厚度B之比B/A为0.25~0.52的范围。 |
地址 |
日本东京都 |