| 发明名称 | 衬垫调节器制造方法及衬垫调节器 | ||
| 摘要 | 本发明涉及的衬垫调节器的制造方法及衬垫调节器，包括：层叠感光性薄膜(23)在底座基板(21)上，并通过蚀刻工艺在所述感光性薄膜(23)上形成多个安装孔(25)的步骤；在所述安装孔(25)中插入研磨粒子(27)，并在所述安装孔上部形成镀金层(31)以覆盖所述感光性薄膜(23)和所述研磨粒子(27)的上部面的步骤；去除所述底座基板(21)和所述感光性薄膜(23)的步骤；以及部分熔化所述镀金层(31)的步骤。本发明具有可以使研磨粒子均一地在镀金层上露出并且可以调节凸出于镀金层的上部的研磨粒子的最上端的高度的优点。 | ||
| 申请公布号 | CN105940484A | 申请公布日期 | 2016.09.14 |
| 申请号 | CN201480074561.4 | 申请日期 | 2014.11.11 |
| 申请人 | 谢索尔钻石工业株式会社 | 发明人 | 权完在;权荣弼;金太京;梁正贤;李相镐 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚伦律师事务所 11477 | 代理人 | 张俊国 |
| 主权项 | 一种衬垫调节器的制造方法，包括：层叠感光性薄膜在底座基板上，并通过蚀刻工艺在所述感光性薄膜上形成多个安装孔的步骤；在所述安装孔中插入研磨粒子，并在所述安装孔上部形成镀金层以覆盖所述感光性薄膜和所述研磨粒子的上部面的步骤；去除所述底座基板和所述感光性薄膜的步骤；以及部分熔化所述镀金层，使所述研磨粒子部分露出的步骤。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||