阵列基板及其制作方法、显示装置

摘要

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置，所述阵列基板的制作方法包括以下步骤：在衬底基板上形成具有凹陷区和凸起区的第一绝缘层；在形成有所述第一绝缘层的所述衬底基板上形成透明导电薄膜；对所述透明导电薄膜进行图案化处理，以形成梳状的第一透明电极和梳状的第二透明电极，其中，所述第一透明电极的梳齿位于所述凹陷区，所述第二透明电极的梳齿位于所述凸起区。本发明提供的阵列基板的制作方法，像素电极与公共电极在一次构图工艺中同时形成，可以减少构图工艺次数，简化制作工艺，降低生产成本，提高了生产效率。

主权项

一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成具有凹陷区和凸起区的第一绝缘层；在形成有所述第一绝缘层的所述衬底基板上形成透明导电薄膜；对所述透明导电薄膜进行图案化处理，以形成梳状的第一透明电极和梳状的第二透明电极，其中，所述第一透明电极的梳齿位于所述凹陷区，所述第二透明电极的梳齿位于所述凸起区。