| 发明名称 | 阵列基板的制造方法、阵列基板和显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板和显示装置，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底基板上形成包括薄膜晶体管TFT的平坦层前膜层结构；在形成有所述平坦层前膜层结构的衬底基板上形成平坦层图案；在形成有所述平坦层图案的衬底基板上形成透明导电膜层；在形成有所述透明导电膜层的衬底基板上形成触摸金属图案TPM；对所述透明导电膜层进行处理形成公共电极。本发明通过在透明导电膜层上形成TPM，然后再对透明导电膜层进行处理以形成公共电极，解决了相关技术中在公共电极上形成TPM可能会对平坦层图案造成损坏的问题，达到了形成TPM时，由透明导电膜层保护平坦层图案，不会对平坦层图案造成损坏的效果。 | ||
| 申请公布号 | CN105931986A | 申请公布日期 | 2016.09.07 |
| 申请号 | CN201610330828.2 | 申请日期 | 2016.05.18 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 发明人 | 杨璐;史大为;王文涛;司晓文;王金锋;徐海峰 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人 | 滕一斌 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成包括薄膜晶体管TFT的平坦层前膜层结构；在形成有所述平坦层前膜层结构的衬底基板上形成平坦层图案；在形成有所述平坦层图案的衬底基板上形成透明导电膜层；在形成有所述透明导电膜层的衬底基板上形成触摸金属图案TPM；对所述透明导电膜层进行处理形成公共电极。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||