发明名称 堆叠半导体存储器件、存储器系统及修复硅通孔缺陷的方法
摘要 根据本发明构思的一种堆叠半导体存储器件可以包括:多个存储器芯片,堆叠在处理器芯片之上;多个TSV;以及I/O缓冲器。TSV可以穿过存储器芯片并且连接到处理器芯片。I/O缓冲器可以耦接在全部或部分存储器芯片与TSV之间,并且可以基于TSV的缺陷状态选择性地激活。
申请公布号 CN102270504B 申请公布日期 2016.08.31
申请号 CN201110141841.0 申请日期 2011.05.30
申请人 三星电子株式会社 发明人 吴台荣;朴光一;梁润硕;孙宁洙;金始弘;裵升浚
分类号 G11C16/06(2006.01)I 主分类号 G11C16/06(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 邵亚丽
主权项 一种堆叠半导体存储器件,包括:多个堆叠的存储器芯片;多个穿过存储器芯片的硅通孔(TSV);以及多个I/O缓冲器,每个I/O缓冲器耦接在至少一个存储器芯片与至少一个TSV之间,I/O缓冲器被配置为基于TSV的缺陷状态而选择性地激活,其中I/O缓冲器被配置为使得,当至少一个TSV包含缺陷点时,包含在位于所述缺陷点下方的存储器芯片中的I/O缓冲器被激活,其中I/O缓冲器被配置为使得,当至少一个TSV包含缺陷点时,包含在位于所述缺陷点上方的存储器芯片中的I/O缓冲器不被激活。
地址 韩国京畿道