发明名称 |
堆叠半导体存储器件、存储器系统及修复硅通孔缺陷的方法 |
摘要 |
根据本发明构思的一种堆叠半导体存储器件可以包括:多个存储器芯片,堆叠在处理器芯片之上;多个TSV;以及I/O缓冲器。TSV可以穿过存储器芯片并且连接到处理器芯片。I/O缓冲器可以耦接在全部或部分存储器芯片与TSV之间,并且可以基于TSV的缺陷状态选择性地激活。 |
申请公布号 |
CN102270504B |
申请公布日期 |
2016.08.31 |
申请号 |
CN201110141841.0 |
申请日期 |
2011.05.30 |
申请人 |
三星电子株式会社 |
发明人 |
吴台荣;朴光一;梁润硕;孙宁洙;金始弘;裵升浚 |
分类号 |
G11C16/06(2006.01)I |
主分类号 |
G11C16/06(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
邵亚丽 |
主权项 |
一种堆叠半导体存储器件,包括:多个堆叠的存储器芯片;多个穿过存储器芯片的硅通孔(TSV);以及多个I/O缓冲器,每个I/O缓冲器耦接在至少一个存储器芯片与至少一个TSV之间,I/O缓冲器被配置为基于TSV的缺陷状态而选择性地激活,其中I/O缓冲器被配置为使得,当至少一个TSV包含缺陷点时,包含在位于所述缺陷点下方的存储器芯片中的I/O缓冲器被激活,其中I/O缓冲器被配置为使得,当至少一个TSV包含缺陷点时,包含在位于所述缺陷点上方的存储器芯片中的I/O缓冲器不被激活。 |
地址 |
韩国京畿道 |