发明名称 密封膜穿刺系统
摘要 本发明涉及一种用于穿刺将容器的腔室(14)封闭的膜(18)的系统,所述系统包括被配置成用以刺穿膜(18)的穿刺构件(110)以及用于中和易被所述腔室(14)携带的静电荷的电离设备。根据本发明,所述电离设备包括穿刺构件(110),该穿刺构件被设计为具有电离性质。本发明还涉及一种用于穿刺将容器的至少一个腔室(14)封闭的至少一个膜(18)的方法,所述方法包括为了打开所述腔室(14)而穿刺膜(18),以及中和易由所述腔室(14)携带的静电荷,其中利用同一个具有电离性质的穿刺构件(110)来完成穿刺膜(18)及中和静电荷的操作。
申请公布号 CN104540773B 申请公布日期 2016.08.31
申请号 CN201380040926.7 申请日期 2013.05.31
申请人 达亚美有限公司 发明人 让-米歇尔·布里瑟布拉特;塞德里克·戈冈佩恩;帕斯卡尔·巴瑟洛恩
分类号 B67B7/48(2006.01)I;B65B3/00(2006.01)I;G01N35/10(2006.01)I;B67B7/00(2006.01)I 主分类号 B67B7/48(2006.01)I
代理机构 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人 聂慧荃;黄艳
主权项 一种用于穿刺至少一个密封膜(18,64)的穿刺系统(100,600),所述密封膜(18,64)将容器(12,60)的至少一个腔室(14,62)封闭,所述系统包括被配置成用以刺穿所述密封膜(18,64)的穿刺构件(110,604)以及用于消除所述腔室(14,62)可能携带的静电荷的电离设备(108,602),其特征在于,所述电离设备(108,602)包括适于表现出电离性质的所述穿刺构件(110,604)。
地址 瑞士克雷谢