发明名称 一种彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置
摘要 本发明公开了一种彩膜基板,所述彩膜基板包括:第一导电层,形成在衬底基板第一方向上;色阻层,至少形成在第一导电层上像素区域对应位置处,与亚像素区域对应的色阻层位置处形成暴露出第一导电层过孔;黑矩阵,形成在第一导电层上像素空隙对应位置处;第二导电层,形成在黑矩阵和色阻层表面的第二方向上,且处于过孔间的空隙处;介电层,形成在第二导电层上,其上存在与色阻层过孔对应的过孔;第三导电层,形成在介电层的第三方向上,通过过孔与第一导电层相连接。本发明增大了单位像素上的投射电容,防止触摸部分信号和像素显示部分信号产生干扰,有效地提高开口率,保证显示面板的透过率。
申请公布号 CN104076551B 申请公布日期 2016.08.24
申请号 CN201410289619.9 申请日期 2014.06.25
申请人 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 发明人 冯兰;侯清娜
分类号 G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I;G06F3/044(2006.01)I 主分类号 G02F1/1335(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 宋焰琴
主权项 一种彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板包括衬底基板、第一导电层、黑矩阵、色阻层、第二导电层、介电层和第三导电层,其中:所述第一导电层形成在所述衬底基板的第一方向上;所述色阻层至少形成在所述第一导电层上像素区域对应的位置处,其中,与每个亚像素区域相对应的色阻层位置处形成有一个或多个过孔,且每个过孔均暴露出第一导电层;所述黑矩阵形成在所述第一导电层上像素空隙对应的位置处;所述第二导电层形成在所述黑矩阵和色阻层表面上的第二方向上,其中,所述第二导电层形成在所述过孔之间的空隙处;所述介电层形成在所述第二导电层上,其上也存在与色阻层的过孔相应的过孔;所述第三导电层形成在所述介电层上的第三方向上,且通过所述色阻层和介电层上的过孔与第一导电层相连接。
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