发明名称 一种通过电流拟合检测GaN基HEMT退化的方法
摘要 本发明公开了一种通过电流拟合检测GaN基HEMT退化的方法。该方法首先制作便于分析栅漏电流特性的圆形肖特基二极管结构,对其施加持续的反向应力,测量应力前后的温度依赖电流‑电压曲线;然后通过拟合不同温度下的正向隧穿电流,根据饱和隧穿电流和隧穿参数与温度的关系,外推确定应力前后绝对零度下的器件饱和隧穿电流值和隧穿参数值;最后计算求得应力引起势垒层缺陷密度的变化,实现对GaN基HEMT退化的检测。本发明采用一种简单的方法实现了对应力引起的势垒层缺陷密度的检测,有助于分析GaN基HEMT器件的退化机制和退化过程。
申请公布号 CN105891693A 申请公布日期 2016.08.24
申请号 CN201610271015.0 申请日期 2016.04.27
申请人 江南大学 发明人 任舰;顾晓峰;闫大为
分类号 G01R31/26(2014.01)I;G01R31/28(2006.01)I;G01R19/00(2006.01)I 主分类号 G01R31/26(2014.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种通过电流拟合检测GaN基HEMT退化的方法,其特征在于:该方法首先制作便于分析栅漏电流特性的圆形肖特基二极管结构,对其施加持续的反向应力,测量应力前后的温度依赖电流‑电压曲线;然后通过拟合不同温度下的正向隧穿电流,根据饱和隧穿电流和隧穿参数与温度的关系,外推确定应力前后绝对零度下的器件饱和隧穿电流值和隧穿参数值;最后计算求得应力引起势垒层缺陷密度的变化,实现对GaN基HEMT退化的检测。
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