一种掩模板清洗系统

摘要

本发明提供一种掩模板清洗系统，其具有第一清洗设备，用于清洗表面的有机材料残留物、第二清洗设备，用于清洗颗粒杂质和第一漂洗装置、第二漂洗装置，分别用于对经第一清洗设备和第二清洗设备清洗过的掩模板进行漂洗，最终将掩模板清洗干净，本发明不仅可有效提高清洗效果，而且可以减少清洗液的损耗，提高清洗液的利用率，从而降低清洗成本。同时，在清洗的过程中，本发明采用机械手对掩模板进行转运，可实现清洗过程的连续化和自动化控制，提高了清洗效率，并进一步降低了清洗成本。

主权项

一种掩模板清洗系统，所述掩模板具有蒸镀孔，其特征在于：所述掩模板清洗系统包括用于去除所述掩模板表面的有机材料残留物的第一清洗设备、用于漂洗所述掩模板的第一漂洗设备、用于去除所述蒸镀孔内的颗粒杂质的第二清洗设备和用于漂洗所述掩模板的第二漂洗设备，所述第一漂洗设备与所述第一清洗设备邻接设置，所述第二漂洗设备与所述第二清洗设备邻接设置；所述第一清洗设备包括至少一个超声清洗槽，所述第一漂洗设备包括至少一个第一漂洗槽，所述掩模板在所述超声清洗槽内清洗后再在所述第一漂洗槽内漂洗，以去除所述有机材料残留物；所述第二清洗设备包括至少一个电解清洗槽，所述第二漂洗设备包括至少一个第二漂洗槽，所述掩模板在所述电解清洗槽内清洗后再在所述第二漂洗槽内漂洗，以去除所述颗粒杂质；还包括用于回收第一清洗液的第一纯化回收设备及用于回收第一漂洗液的第二纯化回收设备，所述第一纯化回收设备邻接于所述第一清洗设备，所述超声清洗槽内盛装有所述第一清洗液，所述第一清洗液的沸点低于所述有机材料残留物；所述第二纯化回收设备邻接于所述第一漂洗设备，所述第一漂洗槽内盛装有第一漂洗液，所述第一漂洗液的沸点低于所述第一清洗液，或者所述第一漂洗液在常温下易挥发。