一种等离子体刻蚀装置及干法刻蚀设备

摘要

本发明公开了一种等离子体刻蚀装置及干法刻蚀设备，用以在大范围内控制等离子体的刻蚀分布，实现对刻蚀率的独立和均匀控制。所述等离子体刻蚀装置包括：气体输入端、下部电极和上部电极，其中：所述上部电极包括多个上部子电极，所述装置还包括：整流板、升降螺杆以及绝缘隔板，所述整流板位于所述气体输入端和所述上部子电极之间，用于将所述气体输入端输入的反应气体均匀分布在每个上部子电极表面；所述升降螺杆与每个上部子电极连接，用于控制每个上部子电极与所述下部电极之间的距离；所述绝缘隔板位于相邻的两个上部子电极之间，使得相邻的上部子电极之间绝缘。

主权项

一种等离子体刻蚀装置，包括气体输入端、下部电极和上部电极，其特征在于，所述上部电极包括多个上部子电极，所述装置还包括：设置有多个开孔的挡板、设置有多个开孔的整流板、升降螺杆以及绝缘隔板，其中：所述挡板位于所述气体输入端和所述整流板之间，用于将所述气体输入端输入的气体从所述挡板的开孔处输出；所述整流板位于所述气体输入端和所述上部子电极之间，用于将所述气体输入端输入的反应气体均匀分布在每个上部子电极表面；所述升降螺杆与每个上部子电极连接，用于控制每个上部子电极与所述下部电极之间的距离；所述绝缘隔板位于相邻的两个上部子电极之间，使得相邻的上部子电极之间绝缘。