发明名称 一种光纤端面加工方法
摘要 本发明公开了一种光纤端面加工方法,包括以下步骤:(1)清洗光纤端面,吹片烘干;(2)在光纤端面涂光刻胶,形成均匀光刻胶层;(3)对光纤端面进行烘干;(4)进行激光自动对准,曝光形成反应池图形,显影,清洗,烘干;(5)使用干法刻蚀对光纤端面进行刻蚀,得到光纤端面反应池。本发明工艺简单,可操作性强,精确度高。
申请公布号 CN105044845B 申请公布日期 2016.08.17
申请号 CN201510521825.2 申请日期 2015.08.24
申请人 北京中科紫鑫科技有限责任公司 发明人 陈哲;张睿;王者馥;王绪敏;殷金龙;任鲁风
分类号 G02B6/25(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G02B6/25(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种光纤端面加工方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)清洗光纤端面,吹片烘干;(2)在光纤端面涂光刻胶,形成均匀光刻胶层;(3)对光纤端面进行烘干;(4)进行激光自动对准,曝光形成反应池图形,显影,清洗,烘干;(5)使用干法刻蚀对光纤端面进行刻蚀,得到光纤端面反应池;步骤(1)和(4)中所述清洗先使用三乙醇胺,再使用水冲洗;所述光纤为石英光纤;所述涂光刻胶使用高压无气喷涂装置,喷出速度在100‑110m/s以上,得到光刻胶的厚度为1‑1.5μm;所述光刻胶为PAC、线型酚醛树脂和溶剂组成;所述溶剂为四氢呋喃和乙酸乙酯;所述光刻胶在使用时,用溶剂稀释5倍;所述步骤(1)、(3)中烘干的温度为55‑65℃,时间为15‑30分钟;所述步骤(4)中烘干温度为130‑135℃,时间为10‑15分钟;所述曝光为投影式曝光;所述刻蚀气体为三氟化氮和氧气。
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