抛光液均匀流动的抛光垫

摘要

一种抛光液均匀流动的抛光垫，它包括内环面（1）和外环面（2），外环面（2）的半径不超过内环面（1）半径的四倍，其特征是在内环面（1）和外环面（2）之间的加工表面上设有凹槽区（3），凹槽区（3）上设有若干数量相等、旋向相反的凹槽（4）；所述凹槽（4）的形状满足一定的数学关系。本发明的抛光液能实现均匀流动，明显提高加工质量。

主权项

一种抛光液均匀流动的抛光垫，它包括内环面(1)和外环面(2)，外环面(2)的半径不超过内环面(1)半径的四倍，其特征是在内环面(1)和外环面(2)之间的加工表面上设有凹槽区(3)，凹槽区(3)上设有若干数量相等、旋向相反的凹槽(4)；所述凹槽(4)的形状满足以下关系：${\theta }_1=\sqrt{{\left(\frac{r}{r_0}\right)}^2-1}-{\tan }^{-1}\left(\sqrt{{\left(\frac{r}{r_0}\right)}^2-1}\right)$${\theta }_2=\sqrt{{\left(\frac{r}{r_0}\right)}^2-1}+{\tan }^{-1}\left(\sqrt{{\left(\frac{r}{r_0}\right)}^2-1}\right)$式中r₀为凹槽(4)终点径向位置，r为凹槽上某一点到抛光垫中心的距离，θ₁表示逆时针展成凹槽的极角，θ₂表示顺时针展成方向凹槽的极。