| 发明名称 | 干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种干膜光致抗蚀剂所包含的光敏树脂组合物，更详细地，涉及一种维持优异的细线密着性和分辨率的同时，对蚀刻液的耐酸性也优异，并且不仅在PCB的制备，以ITO作为传感器以及电极使用的触控面板等的制备中也能够提高质量及生产率的干膜光致抗蚀剂中所包含的光敏树脂组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN105849640A | 申请公布日期 | 2016.08.10 |
| 申请号 | CN201480071090.1 | 申请日期 | 2014.12.22 |
| 申请人 | 可隆工业株式会社 | 发明人 | 崔钟昱 |
| 分类号 | G03F7/032(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I;G03F7/028(2006.01)I;G03F7/11(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/032(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 姜虎;陈英俊 |
| 主权项 | 一种干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，其特征为，该干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物含有：碱显影性粘合剂聚合物(A)、光聚合引发剂(B)及光聚合性化合物(C)，所述碱显影性粘合剂聚合物(A)含有环氧改性丙烯酸树脂。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||