薄膜沉积装置

摘要

本发明公开了一种薄膜沉积装置，在该薄膜沉积装置中源单元被配置在等离子体单元的下端，并且所述等离子体单元包括栅格。

主权项

一种薄膜沉积装置，其包括：衬底加载单元，将衬底加载在该衬底加载单元上；衬底传送单元，其连接于所述衬底加载单元并被配置成交替地移动所述衬底；以及薄膜沉积单元，其被配置成在所述衬底上沉积薄膜，其中所述薄膜沉积单元包括等离子体模块，所述等离子体模块包括相互独立的源单元和等离子体单元，所述等离子体模块的所述等离子体单元包括：进口单元，通过该进口单元引入等离子体气体；等离子体存储单元，其存储通过所述进口单元引入的所述等离子体气体；以及多个等离子体生成单元和多个源单元，其交替地配置在所述等离子体存储单元的下端，并且其中所述等离子体模块进一步包括栅格。