| 发明名称 | 填孔和光刻用的抗反射涂层及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种填孔和光刻用的抗反射涂层及其制备方法。本文描述一种吸收组合物，包含由至少一种无机‑基化合物和至少一种吸收化合物形成的吸收材料；和至少一种材料改性剂，其中该至少一种材料改性剂包含至少一种氮基基团或取代基。 | ||
| 申请公布号 | CN103627316B | 申请公布日期 | 2016.08.03 |
| 申请号 | CN201210350991.7 | 申请日期 | 2004.11.17 |
| 申请人 | 霍尼韦尔国际公司 | 发明人 | B.李;J.肯尼迪;N.伊瓦莫托;V.卢;R.梁;M.A.弗拉德金;M.A.胡塞恩;M.D.戈德纳 |
| 分类号 | G03F7/09(2006.01)I;C09D183/04(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/09(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 万雪松 |
| 主权项 | 一种由反应混合物形成的吸收组合物，包含至少一种无机‑基化合物；至少一种吸收化合物；和至少一种材料改性剂，其中该至少一种材料改性剂包含至少一种增粘剂，该增粘剂包含γ‑氨丙基三乙氧基硅烷（APTEOS）的盐，其中APTEOS的盐包括APTEOS三氟甲磺酸盐、APTEOS甲磺酸盐、APTEOS硝酸盐、APTEOS九氟丁烷‑1‑磺酸盐(nfbs)或其组合。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||