发明名称 |
具有在基底支撑件上的弯曲的同心凹槽的衬托器 |
摘要 |
本发明涉及一种用于外延生长反应器的衬托器;它大体上包含主体(601),所述主体(601)具有面(602),该面(602)包括适合于接纳将经历外延生长的基底的至少一个区(603);该区(603)具有用于放置所述基底的支托表面(604)或与用于放置所述基底的支托表面(604)相关联;支托表面(604)设置有图案,该图案包括多个弯曲的凹槽伸展部(606),该多个弯曲凹槽伸展部(606)使它们的中心大体上在与所述支托表面(604)相同的位置(605)中。 |
申请公布号 |
CN105814243A |
申请公布日期 |
2016.07.27 |
申请号 |
CN201480067667.1 |
申请日期 |
2014.12.17 |
申请人 |
LPE公司 |
发明人 |
弗朗西斯科·科里亚;D·克里帕;温森佐·奥格里阿里;弗兰科·佩雷蒂;马里奥·普莱蒂 |
分类号 |
C30B25/12(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I |
主分类号 |
C30B25/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 |
代理人 |
汤慧华;郑霞 |
主权项 |
一种用于外延生长反应器的衬托器,包含主体(601),所述主体(601)具有面(602),所述面(602)包括适合于接纳将经历外延生长的基底的至少一个区(603),其中所述区(603)具有用于放置所述基底的支托表面(604)或与用于放置所述基底的支托表面(604)相关联,并且其中所述支托表面(604)设置有图案,其特征在于,所述图案包括多个弯曲的凹槽伸展部(606),所述多个弯曲的凹槽伸展部(606)使它们的中心大体上在与所述支托表面(604)相同的位置(605)中。 |
地址 |
意大利米兰巴兰扎泰 |