| 发明名称 | 一种对HMX晶体形貌进行修复/修饰的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种对HMX晶体形貌进行修复/修饰的方法，该方法包括：在搅拌条件下，使HMX晶体与溶剂‑反溶剂重结晶法制得的HMX重结晶母液或其稀释液进行混合。本发明的方法能够制备圆滑的HMX晶体，该晶体中HMX含量≥99.9％，晶体密度≥1.90g/cm<sup>3</sup>，通过仪器观察其微观结构可见，其外观无尖锐棱角，晶体短长轴比≥0.8。因此，由本发明的方法制备的HMX晶体具有流散性好、感度低等特点。而且，本发明的方法反应条件温和，并且使用的是结晶母液或其稀释液，具有制备简单以及成本低廉的特点。 | ||
| 申请公布号 | CN105732531A | 申请公布日期 | 2016.07.06 |
| 申请号 | CN201610070704.5 | 申请日期 | 2016.02.02 |
| 申请人 | 北京理工大学 | 发明人 | 郭学永;张静元;焦清介;张朴;崔超;卢佳骥;张洪垒;李航 |
| 分类号 | C07D257/02(2006.01)I | 主分类号 | C07D257/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人 | 韦庆文 |
| 主权项 | 一种对HMX晶体形貌进行修复/修饰的方法，其特征在于，该方法包括：在搅拌条件下，使HMX晶体与溶剂‑反溶剂重结晶法制得的HMX重结晶母液或其稀释液进行混合。 | ||
| 地址 | 100081 北京市海淀区中关村南大街5号 | ||