发明名称 一种纳米级六方氮化硼/二氧化硅复相陶瓷材料的制备方法
摘要 本发明公开了一种纳米级六方氮化硼/二氧化硅复相陶瓷材料的制备方法,属于陶瓷材料技术领域。制备包括:将六方氮化硼粉体在400~800℃下进行氧化处理,将氧化处理后的六方氮化硼粉体与二氧化硅粉体混合,经球磨搅拌、造粒、压片、排胶后,在气氛炉中于1500~1600℃进行烧结,经冷却制得纳米级六方氮化硼/二氧化硅复相陶瓷材料。本发明方法操作简单,对设备要求低,经该方法制得的复相陶瓷材料的致密度、弯曲强度及断裂韧性良好。
申请公布号 CN104529412B 申请公布日期 2016.06.29
申请号 CN201410833418.0 申请日期 2014.12.27
申请人 西安交通大学 发明人 金汉;李永锋;史忠旗;乔冠军
分类号 C04B35/14(2006.01)I;C04B35/626(2006.01)I 主分类号 C04B35/14(2006.01)I
代理机构 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人 陆万寿
主权项 一种纳米级六方氮化硼/二氧化硅复相陶瓷材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)按1:5~8的质量比,取六方氮化硼粉体和二氧化硅粉体,先将六方氮化硼粉体在400~800℃下进行氧化处理3~7d,将氧化处理后的六方氮化硼粉体与二氧化硅粉体混合,得混合粉体;2)将混合粉体进行湿法球磨,球磨得到的浆料烘干、粉碎、过筛;3)向过筛得到的粉料中加入粉料质量5%~10%的聚乙烯醇水溶液,研磨造粒,制得造粒料,将造粒料压制成坯体;4)将坯体在400~600℃下排胶12~24h;5)将排胶处理后的坯体在氮气气氛下,在气氛炉中,以5~15℃/min的速率升温至1500~1600℃,烧结1~3h后,制得纳米级六方氮化硼/二氧化硅复相陶瓷材料。
地址 710049 陕西省西安市咸宁西路28号