发明名称 EXPOSURE APPARATUS EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 노광 장치 (100) 에는, 스테이지 (WFS1) 가 투영 광학계 (PL) 의 사출면에 대향하는 위치에 있을 때 투영 광학계 (PL) 와의 사이에서 액체 (Lq) 를 유지할 수 있는 미동 스테이지 (WFS1), 및 미동 스테이지 (WFS1) 가 투영 광학계 (PL) 와의 사이에서 액체 (Lq) 를 유지하고 있을 때 미동 스테이지 (WFS1) 에 소정 거리 이내에 근접하고, 그 근접 상태를 유지하면서 미동 스테이지 (WFS1) 와 함께 이동한 후, 그 이동 후에 투영 광학계 (PL) 와의 사이에서 액체 (Lq) 를 유지하는 블레이드 (BL) 가 구비되어 있다. 따라서, 투영 광학계 바로 아래에 복수의 스테이지가 교환가능하게 배치될 필요가 없고, 노광 장치의 풋프린트의 증대화를 억제할 수 있다.
申请公布号 KR101634839(B1) 申请公布日期 2016.06.29
申请号 KR20117016769 申请日期 2009.12.18
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 시바자키 유이치
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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