| 发明名称 | 一种采用光谱椭偏仪对金属膜进行检测的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种采用光谱椭偏仪对金属膜进行检测的方法，所述方法包括以下步骤：制备非吸收介质-Si衬底膜系；用光谱椭偏仪对非吸收介质-Si衬底膜系进行测量和拟合；用相同的方法在非吸收介质-Si衬底膜系和玻璃衬底上分别制备厚度相同的金属膜，得到金属-非吸收介质-Si衬底膜系和金属-玻璃膜系；用光谱椭偏仪对金属-非吸收介质-Si衬底膜系进行测量和分段拟合，得到所需数据。本发明极大的提高了超厚金属膜检测的精度和灵敏度，扩大了可测金属膜的厚度范围。本发明测量方法简单方便，测量结果稳定可靠，适用范围广泛。 | ||
| 申请公布号 | CN105674899A | 申请公布日期 | 2016.06.15 |
| 申请号 | CN201610051591.4 | 申请日期 | 2016.01.26 |
| 申请人 | 国家纳米科学中心 | 发明人 | 田毅;张先锋;闫兰琴;宋志伟;褚卫国 |
| 分类号 | G01B11/06(2006.01)I;G01N21/21(2006.01)I | 主分类号 | G01B11/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人 | 巩克栋;侯潇潇 |
| 主权项 | 一种采用光谱椭偏仪对金属膜进行检测的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：(1)制备非吸收介质‑Si衬底膜系；(2)用光谱椭偏仪对非吸收介质‑Si衬底膜系进行测量和拟合；(3)用相同的方法在非吸收介质‑Si衬底膜系和玻璃衬底上分别制备厚度相同的金属膜，得到金属‑非吸收介质‑Si衬底膜系和金属‑玻璃膜系；(4)用光谱椭偏仪对金属‑非吸收介质‑Si衬底膜系进行测量和分段拟合，得到所需数据。 | ||
| 地址 | 100190 北京市海淀区中关村北一条11号 | ||