一种双通道类金刚石碳膜沉积装置

摘要

本发明涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种双通道类金刚石碳膜沉积装置，真空室的上盖与真空室的室底相对，真空室的侧壁连接上盖和室底；阳极靶和阴极靶设置在真空室的内部，阳极靶与阴极靶相对设置，阴极靶位于真空室的室底与阳极靶之间；驱动机构穿过室底与阴极靶相连；第一连接通道和第二连接通道在并联后，串联在抽真空装置和真空室之间，连通抽真空装置与真空室，第一连接通道的直径为第二连接通道的直径的3倍；第一调节阀设置在第一连接通道与真空室连通处；第二调节阀设置在第二连接通道与真空室连通处。本申请通过在抽真空装置与真空室之间设置两个连接通道，通过对两个连接通道的开闭程度的调节，能够精确的控制沉积装置内部气流的均匀性。

主权项

一种双通道类金刚石碳膜沉积装置，其特征在于，包括真空室、阳极靶、阴极靶、驱动机构、抽真空装置、第一连接通道、第二连接通道、第一调节阀和第二调节阀；所述真空室的上盖与所述真空室的室底相对，所述真空室的侧壁连接所述上盖和所述室底，以形成一腔室；所述阳极靶和所述阴极靶设置在所述真空室的内部，且，所述阳极靶与所述阴极靶相对设置，所述阴极靶位于所述真空室的室底与所述阳极靶之间；所述驱动机构穿过所述室底与所述阴极靶相连；所述第一连接通道和所述第二连接通道在并联后，串联在所述抽真空装置和所述真空室之间，以连通所述抽真空装置与所述真空室，其中，所述第一连接通道的直径为所述第二连接通道的直径的3倍；所述第一调节阀设置在所述第一连接通道与所述真空室连通处；所述第二调节阀设置在所述第二连接通道与所述真空室连通处。