图案验证方法

摘要

本发明公开一种图案验证方法。首先将该目标图案分解为一第一图案以及一第二图案，接着对第一图案进行一第一光学邻近校正制作工艺，以获得一第一校正图案，以及对第二图案进行一第二光学邻近校正制作工艺，以获得一第二校正图案。接着进行一检验步骤，包含考虑目标图案、第一图案、第一校正图案、第二图案、第二校正图案以及硬掩模蚀刻制作工艺的参数。

主权项

一种图案验证(pattern verifying)方法，使用于一双重图案化技术(double patterning technology,DPT)，以通过一硬掩模蚀刻制作工艺以形成一图案化硬掩模层，该图案化硬掩模层具有目标图案，该双重图案化技术包含使用一第一光掩模以及一第二光掩模，其中该图案验证方法包含：使用一电脑系统，将该目标图案分解(decompose)为一第一图案以及一第二图案；对该第一图案进行一第一光学邻近校正(optical proximity correction,OPC)制作工艺，以获得一第一校正图案，以及对该第二图案进行一第二光学邻近校正制作工艺，以获得一第二校正图案；以及进行一检验步骤，包含考虑该目标图案、该第一图案、该第一校正图案、该第二图案、该第二校正图案以及该硬掩模蚀刻制作工艺的参数。