发明名称 带凹槽结构的晶片载体
摘要 1.本外观设计产品的名称:带凹槽结构的晶片载体。2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品为用在化学气相沉积系统中的带凹槽结构的晶片载体。3.本外观设计产品的设计要点:各图片所示的产品整体形状,尤其是俯视图所示的产品形状。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:立体图。5.省略视图:左视图、右视图和后视图与主视图相同,省略左视图、右视图和后视图。
申请公布号 CN303701946S 申请公布日期 2016.06.08
申请号 CN201530375064.5 申请日期 2015.09.25
申请人 维易科仪器有限公司 发明人 桑迪普·克利希南;拉格胡·穆尔坎纳亚
分类号 14-99(10) 主分类号 14-99(10)
代理机构 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 代理人 胡艳
主权项
地址 美国纽约州