发明名称 溅镀装置
摘要 溅镀装置具有:配置于基板平台与多个阴极电极之间的防附着板,以及配置于前述防附着板与前述基板平台之间的闸门板。防附着板,在与被前述多个阴极电极保持的多个靶材的各个相向的位置具有孔。在前述防附着板与前述闸门板彼此相向的各自的面,形成有以该闸门板的旋转轴为中心的同心状的凹凸形状。
申请公布号 CN104169456B 申请公布日期 2016.06.08
申请号 CN201280071339.X 申请日期 2012.09.26
申请人 佳能安内华股份有限公司 发明人 石原繁纪
分类号 C23C14/34(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 吕林红
主权项 一种溅镀装置,该溅镀装置配置有:真空腔室;基板平台,设于前述真空腔室内而用来保持基板;多个阴极电极,与前述基板平台相向设置而用来保持各个靶材;防附着板,配置于前述基板平台与前述阴极电极之间,在与前述多个靶材的各个相向的位置形成有孔;该溅镀装置的特征在于:在前述防附着板与前述基板平台之间具有闸门板,该闸门板形成有使前述靶材对前述基板露出的至少一个孔,通过以旋转轴为中心的旋转,将前述靶材与前述基板做成遮蔽状态或非遮蔽状态,在前述防附着板与前述闸门板彼此相向的各自的面,形成有以该闸门板的旋转轴为中心的同心状的凹凸形状,在前述各自的面形成的前述凹凸形状彼此相向,且前述防附着板的前述凹凸形状的凸部与前述闸门板的前述凹凸形状的凹部彼此相向,前述防附着板的前述凹凸形状的凹部与前述闸门板的前述凹凸形状的凸部彼此相向。
地址 日本神奈川