| 发明名称 | 处理腔室和包含此的基板制造装置及基板制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种处理腔室和包含此的基板制造装置及基板制造方法，能够防止内部空间的气体流出到外部。为了实现所述目的，本发明的处理腔室包括：内部腔室(100)，投入到内部的基板借助于工艺气体而得到处理；内部排气口(131)，用于向外部排出所述内部腔室(100)的内部空间的气体；外部盖体(200)，围绕所述内部腔室(100)的外部；外部排气口(231)，用于向外部排出所述内部腔室(100)与外部盖体(200)之间的空间的气体。 | ||
| 申请公布号 | CN105632975A | 申请公布日期 | 2016.06.01 |
| 申请号 | CN201510830610.9 | 申请日期 | 2015.11.25 |
| 申请人 | 系统科技公司 | 发明人 | 安贤焕;徐现模;高东辰 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人 | 孙昌浩;姜长星 |
| 主权项 | 一种双排气结构的处理腔室，包括：内部腔室(100)，投入到内部的基板借助于工艺气体而得到处理；内部排气口(131)，用于向外部排出所述内部腔室(100)的内部空间的气体；外部盖体(200)，围绕所述内部腔室(100)的外部；外部排气口(231)，用于向外部排出所述内部腔室(100)与外部盖体(200)之间的空间的气体。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道安城市 | ||