发明名称 MULTILAYER MIRROR AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
摘要 다층 미러는 2-8 nm 범위 내의 파장을 가지는 방사선을 반사하도록 구성 및 배치된다. 상기 다층 미러는 Cr 층과 Sc 층, Cr 층과 C 층, C 층과 BC 층, U 층과 BC 층, Th 층과 BC 층, C 층과 BC 층, La 층과 BC 층, U 층과 BC 층, Th 층과 BC 층, La 층과 B 층, C 층과 B 층, U 층과 B 층, Th 층과 B 층으로 이루어진 그룹에서 선택된다.
申请公布号 KR101625934(B1) 申请公布日期 2016.05.31
申请号 KR20117000110 申请日期 2009.05.20
申请人 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 发明人 글루쉬코프 데니스 알렉산드로비치;바니너 바딤 예브제너비치;무어스 요하네스 후베르투스 요세피나;시마에녹 레오니드 아이지코비치;살라스첸코 니콜라이 니콜라에비치
分类号 G03F1/00;G03F7/20;G21K1/06 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
主权项
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