| 摘要 |
박막 증착 장치는 챔버와, 서셉터, 및 가스 공급부를 포함한다. 챔버는 증착 공정이 행해지는 내부 공간을 갖는다. 서셉터는 챔버 내에 회전 가능하게 설치되며, 상면에 회전중심 둘레를 따라 복수의 기판들을 직접적으로 지지하거나, 하나 이상의 기판이 배치되어 있는 기판 홀더를 지지한다. 가스 공급부는 서셉터의 상부 중앙에 설치되며, 챔버의 외부로부터 제1 소스가스를 공급받아 서셉터 상면으로 분사하는 제1 소스가스 분사부와, 제1 소스가스 분사부의 하측에 배치되며 챔버의 외부로부터 제2 소스가스를 공급받아 서셉터 상면으로 분사하는 제2 소스가스 분사부, 및 제1,2 소스가스 분사부 사이에 배치되며 챔버의 외부로부터 제1 추가가스를 공급받아 서셉터 상면으로 분사하는 제1 추가가스 분사부를 구비한다. |
