发明名称 WAFER HEAT TREATMENT APPARATUS CONSTRUCTED TO PREVENT BACKDRAFT OF GAS
摘要 본 발명에 따른 기체의 역류가 방지되도록 구성되는 웨이퍼 열처리 장치는 복수 개의 웨이퍼들이 적재되는 보우트부재와, 상기 보우트부재의 외부를 감싸며 공정가스가 주입되는 공정튜브부재와, 상기 공정튜브부재의 외부를 감싸는 단열부재와, 상기 보우트부재에 적재되는 웨이퍼들을 가열하기 위한 가열부재와, 상기 단열부재 하부에 배치되는 베이스부재를 포함하며, 상기 공정튜브부재와 단열부재 사이에는 기체의 유동을 위한 공간이 형성되고, 상기 단열부재에는 기체의 유입을 위한 유입구가 형성되고, 상기 베이스부재에는 기체의 유출을 위한 유출구가 형성되며, 상기 단열부재는 원기둥 형상으로 형성되되, 상기 베이스부재에는 상기 공정튜브부재 주위로 유동된 기체를 배출하기 위한 배출공이 형성되며, 상기 배출공은 상기 공정튜브부재와 단열부재 사이의 원형 영역에서 원주 방향을 따라 복수 개 형성되는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의해, 공정튜브 외부 공간을 통해 공기가 보다 원활히 유동되도록 함으로써, 공정튜브의 온도를 균일하게 상승시킬 수 있다.
申请公布号 KR101624262(B1) 申请公布日期 2016.05.26
申请号 KR20140040508 申请日期 2014.04.04
申请人 (주) 예스티 发明人 여원재
分类号 H01L21/02;H01L21/324 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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