| 发明名称 | 一种双面抛光用抛光布的修整工艺 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种双面抛光用抛光布的修整工艺，在双面抛光贴布后或者抛光后，使用金刚石砂轮对抛光布进行修整，该修整工艺包括以下步骤：(1)先使金刚石砂轮顺时针旋转对抛光布进行修整；(2)在顺时针旋转结束后使金刚石砂轮转动速度降至0；(3)再使金刚石砂轮逆时针旋转对抛光布进行修整；(4)修整完使用盘刷子进行刷盘。在上述修整工艺中，所述步骤(1)与所述步骤(3)中金刚石砂轮的旋转方向可以互换。本发明采用金刚石砂轮顺时针旋转和逆时针旋转相结合的方式对抛光布进行修整，能大大提高抛光布的平整度，进而提高硅片的几何参数水平；本发明简单易行，在效率上和传统工艺相同，可以用于商业上的任何大直径硅片加工工艺。 | ||
| 申请公布号 | CN103817600B | 申请公布日期 | 2016.05.18 |
| 申请号 | CN201210465591.0 | 申请日期 | 2012.11.16 |
| 申请人 | 有研半导体材料有限公司 | 发明人 | 库黎明;闫志瑞;索思卓;王永涛;葛钟;叶松芳;鲁进军 |
| 分类号 | B24B53/017(2012.01)I | 主分类号 | B24B53/017(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人 | 郭佩兰 |
| 主权项 | 一种双面抛光用抛光布的修整工艺，使用金刚石砂轮对双面抛光机大盘上的抛光布进行修整，其特征在于，该修整工艺包括以下步骤：(1)先使金刚石砂轮顺时针旋转对抛光布进行修整；(2)在顺时针旋转结束后使金刚石砂轮转动速度降至0；(3)再使金刚石砂轮逆时针旋转对抛光布进行修整；(4)修整完使用盘刷子进行刷盘。 | ||
| 地址 | 101300 北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧 | ||