发明名称 一种去除单壁碳纳米管中碳杂质的方法
摘要 本发明公开了一种去除单壁碳纳米管中碳杂质的方法,包括机械研磨、高温氢气或中温等离子体氢气处理,气流分级筛选以及重复上述步骤两至三次;该方法可将单壁碳纳米管中的碳杂质即洋葱碳纳米颗粒,多壁碳纳米管或无定形碳的质量分数由50%降低至0.05%以下;同时由于是完全干法处理,能够保持单壁碳纳米管的膨松结构,为超级电容器储能或透明导电显示等应用提供基础;本方法具有设备少、操作简单、易重复,过程易放大,成本低的优点。
申请公布号 CN104310375B 申请公布日期 2016.05.18
申请号 CN201410528149.7 申请日期 2014.10.09
申请人 清华大学 发明人 魏飞;张兴华;骞伟中;张强
分类号 C01B31/02(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I 主分类号 C01B31/02(2006.01)I
代理机构 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人 贾玉健
主权项 一种去除单壁碳纳米管中碳杂质的方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤1:将含碳杂质的单壁碳纳米管产品用机械研磨的方法研磨1‑24h;步骤2:将机械研磨后的单壁碳纳米管产品置于反应器中,通入含氢气的气体,在高温或中温等离子体的环境中进行处理;步骤3:将处理后的单壁碳纳米管产品再利用气流分级筛选的方法处理,然后降至室温;步骤4:重复上述步骤1‑3一至三次;步骤2所述的含氢气的气体指氢气,或氢气与氦气的混合气体,或氢气与氩气的混合气体,含氢气的气体中氢气的体积分数为50‑100%;高温处理时的温度为700‑850℃,绝对压力为0.1‑0.3Mpa,处理时间为1‑72h,氢气的重量空速为0.1‑10g/g碳杂质/h;中温等离子体氢气处理时的温度为300‑550℃,绝对压力为0.1‑0.3Mpa,处理时间为1‑72h,氢气的重量空速为0.1‑10g/g碳杂质/h;步骤3所述的利用气流分级筛选的方法处理,具体为:使反应器中通入氢气、氦气或氩气中的一种或多种气体,控制气速为0.01‑0.1m/s,处理时间为0.1‑0.5h,将碳杂质与单壁碳纳米管分离。
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