发明名称 光学結像装置のモデルベース制御
摘要 本発明は、特にマイクロリソグラフィー用に設計された結像装置の制御部(108)への入力変数の実際入力値を決定する方法に関するものであり、この入力値は光学結像装置(101)の第1位置に割り当てられ、検出ステップ(112.9)では、結像装置の少なくとも1つの検出装置(110.6)の検出変数の少なくとも1つの実際検出値を第2位置において検出し、決定ステップ(112.3)では、入力変数の実際入力値を、少なくとも1つの実際検出値及び事前に規定可能な第1関係(111.3)を用いて決定する。決定ステップ(112.3)の第1計算ステップ(112.10)では、検出装置(110.6)の第2位置における検出変数の実際計算値を、第2関係(111.4)を用いた計算で確定する。次に、決定ステップ(112.3)の比較ステップ(112.11)では、検出変数の実際計算値を、検出変数の実際検出値と比較する。次に、決定ステップ(112.3)の修正ステップ(112.13)では、第1関係(111.3)の修正を、比較ステップ(112.11)の結果の関数として、第1関係(111.3)と第2関係(111.4)との相互関係を用いて実行する。最後に、決定ステップ(112.3)の修正ステップ(112.13)に後続する第2計算ステップ(112.5)では、入力変数の実際入力値を、第1関係(111.3)を用いて計算する。
申请公布号 JP2016513292(A) 申请公布日期 2016.05.12
申请号 JP20150559512 申请日期 2014.02.28
申请人 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 发明人 マルクス ハウフ;ゲラルト ローゼンヘーファー
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址