发明名称 |
一种具有抑制极化效应垒层蓝光LED外延结构 |
摘要 |
一种具有抑制极化效应垒层蓝光LED外延结构,涉及发光二极管技术领域。本发明从下至上依次包括衬底、AlN缓冲层、U型GaN层、N型GaN层、浅量子阱层、有源区、电子阻挡层和P型GaN层。所述浅量子阱层与有源区之间插入抑制极化效应垒层,所述抑制极化效应垒层从下至上包括Al<sub>x</sub>Ga<sub>1-x</sub>N层和SiN层。本发明通过在现有外延结构中插入一种新型垒层,释放应力、抑制极化、降低缺陷密度从而提高辐射复合几率,降低极化效应,以达到增强LED内量子效率的目的。 |
申请公布号 |
CN105552186A |
申请公布日期 |
2016.05.04 |
申请号 |
CN201410590238.4 |
申请日期 |
2014.10.29 |
申请人 |
南通同方半导体有限公司 |
发明人 |
田宇;张晓龙;俞登永;郑建钦;曾欣尧;童敬文;吴东海;李鹏飞 |
分类号 |
H01L33/12(2010.01)I;H01L33/14(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/12(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种具有抑制极化效应垒层蓝光LED外延结构,它从下至上依次包括衬底(1)、AlN缓冲层(2)、U型GaN层(3)、N型GaN层(4)、浅量子阱层(5)、有源区(7)、电子阻挡层(8)和P型GaN层(9),其特征在于:所述浅量子阱层(5)与有源区(7)之间插入抑制极化效应垒层(6),所述抑制极化效应垒层(6)从下至上包括Al<sub>x</sub>Ga<sub>1‑x</sub>N层(10)和SiN层(11)。 |
地址 |
100083 北京市海淀区清华同方科技广场A座29层 |