| 发明名称 | 用于转印印刷用层叠体的基膜、该层叠体及基膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于转印印刷用层叠体的基膜、该层叠体及基膜的制造方法。本发明提供一种用于转印立体设计的转印印刷用层叠体的基膜、其制造方法、使用了该基膜的转印印刷用层叠体。本发明的基膜的特征在于具有高度差5~200μm的凹凸形状，所述凹凸形状优选通过压花加工来形成。 | ||
| 申请公布号 | CN102795013B | 申请公布日期 | 2016.05.04 |
| 申请号 | CN201210165197.5 | 申请日期 | 2012.05.24 |
| 申请人 | 日本合成化学工业株式会社 | 发明人 | 宫户学;北村秀一 |
| 分类号 | B41M5/382(2006.01)I;B41M5/41(2006.01)I;B44C1/24(2006.01)I | 主分类号 | B41M5/382(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种热转印印刷用层叠体的基膜，其特征在于，其为用于转印立体设计的热转印印刷用层叠体的基膜，所述基膜为聚乙烯醇系树脂薄膜，该基膜具有高度差5～200μm的凹凸形状，所述凹凸形状通过压花加工形成。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||