发明名称 |
Verfahren zum optimierten Einstellen der Lichtleistung in der Objektebene bei Auflichtmikroskopen |
摘要 |
Verfahren zum optimierten Einstellen der Lichtleistung in der Objektebene bei Auflichtmikroskopen durch automatische Begrenzung der Lichtintensität der ausgeleuchteten Fläche unter Berücksichtigung der vorliegenden Mikroskop-Geräteparameter, wobei hierfür eine Überprüfung erfolgt, ob oder inwieweit eine thermische Gefährdung oder Schädigung der beleuchteten Flächenabschnitte relevant ist, um beim Erreichen eines Schwellwerts die Lichtleistung der Lichtquelle zu regulieren. |
申请公布号 |
DE102005011121(B4) |
申请公布日期 |
2016.04.28 |
申请号 |
DE20051011121 |
申请日期 |
2005.03.10 |
申请人 |
Möller-Wedel GmbH & Co. KG |
发明人 |
Oelkers, Stefan, Dr.;Schalt, Peter |
分类号 |
G02B21/00;A61B3/13;A61B90/00;G02B21/06 |
主分类号 |
G02B21/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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