发明名称 |
清洁设备、测量方法和校正方法 |
摘要 |
本发明提供能够有效且稳定地清洁基材的清洁设备,用于校正在该清洁设备中使用的溶解的气体的浓度的测量装置的方法,以及用于测量溶解的气体的浓度的测量方法。根据本发明的校正方法是用于校正用于测量在液体中溶解的气体的浓度的测量装置的校正方法。在该校正方法中,实施改变液体中溶解的气体的浓度并预先确定在用超声波照射液体时发生的发光的强度显示出峰的气体的浓度作为参考浓度的步骤(S10)。然后,实施通过用超声波照射液体同时改变液体中的气体的浓度使发光的强度显示出峰时利用待校正的测量装置测量液体中气体的浓度以确定气体的浓度的测量值的步骤(S20)。实施基于测量值和参考浓度校正待校正的测量装置的步骤(S30)。 |
申请公布号 |
CN103094146B |
申请公布日期 |
2016.04.27 |
申请号 |
CN201210433444.5 |
申请日期 |
2012.11.02 |
申请人 |
硅电子股份公司 |
发明人 |
榛原照男;森良弘;久保悦子;内部真佐志 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
李振东;过晓东 |
主权项 |
用于校正用于测量在液体中溶解的气体的浓度的测量装置的校正方法,其包括以下步骤:‑逐渐升高在所述液体中溶解的所述气体的浓度,检测在用超声波照射所述液体时发生的发光,利用能够精确地测量的测量装置测量在所述液体中溶解的所述气体的浓度,及预先确定发光的强度突然骤然地升高时所述气体的浓度作为参考浓度;‑逐渐升高所述液体中的所述气体的浓度,检测在用超声波照射所述液体时发生的发光,及在所述发光的强度突然骤然地升高时利用待校正的测量装置测量所述液体中的所述气体的浓度,以确定在发光的强度突然骤然地升高时所述气体的浓度的测量值;及‑基于所述测量值和所述参考浓度校正所述待校正的测量装置。 |
地址 |
德国慕尼黑 |